壹埃光學(xué)（蘇州）有限公司創(chuàng)建于2013年9月30日，注冊資本500萬元。公司專業(yè)從事光電前沿技術(shù)領(lǐng)域的超光滑拋光技術(shù)、超精密光學(xué)元件制造技術(shù)的研究、開發(fā)和技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化。依托健雄-壹埃超光滑檢測實驗室，公司可對超精密光學(xué)元件表面粗糙度、面型精度、亞表面損傷等實施檢測，認證。

公司有1000 平方米的標(biāo)準(zhǔn)化廠房，其中200 平方米為千級凈化車間，用于超光滑拋光技術(shù)的研究和超精密元件生產(chǎn)。公司擁有自主開發(fā)的，用于超精密光學(xué)元件批量化生產(chǎn)的超光滑拋光設(shè)備多臺，及其若干精密測量（試）儀器，可以為客戶承擔(dān)超精密光學(xué)元件的批量需求。公司擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的超光滑拋光技術(shù)，創(chuàng)建了領(lǐng)先性的技術(shù)體和產(chǎn)品體系。

企業(yè)核心技術(shù)水平—— 批量生產(chǎn)的產(chǎn)品表面粗糙度RMS≤0.1nm超光滑拋光技術(shù)是研制超精密光學(xué)元器件的前沿尖端技術(shù)。公司超光滑拋光技術(shù)成熟度高、研制的表面粗糙度RMS≤0.1nm的超精密光學(xué)元件具備批量生產(chǎn)能力，質(zhì)量穩(wěn)定性高，具有顯著的市場競爭優(yōu)勢和產(chǎn)品技術(shù)創(chuàng)新、成本控制的持續(xù)性。RMS≤0.1nm 超光滑拋光技術(shù)和超精密光學(xué)元件的研究開發(fā)，具有重大的戰(zhàn)略價值和緊迫性。